半导体精密零部件:从单晶硅到真空腔体,定义工艺设备的“骨架与血管”
聚焦刻蚀、薄膜沉积、光刻及量检测设备,我们提供符合SEMI标准的高洁净、耐腐蚀、超低释气核心部件加工服务。
设备原厂(OEM)及国产替代的一站式精密制造伙伴
| 加工名称 | CNC加工 |
|---|---|
| 加工材料 | 任何材质 |
| 加工尺寸 | 不限尺寸 |
| 加工精度 | ±0.005mm |
超高真空与洁净控制
材料的精密成型
复合工艺与质量追溯
| 设备类型 | 典型零件 | 关键要求 |
|---|---|---|
| 刻蚀设备(Etch) | 上/下电极板、气体分配板(GSP)、聚焦环 | 耐氟基/氯基等离子体腐蚀,精密微孔加工(孔径0.3mm)。 |
| 薄膜沉积(PVD/CVD) | 腔体衬套、加热盘、遮护板(Shield)、靶材背板 | 高平面度(0.01mm/m),高温热循环下的尺寸稳定性。 |
| 光刻设备 | 晶圆载台(Chuck)、精密运动导轨 | 超高平面度(微米级),无磁/低热膨胀材料。 |
| 检测/分选设备 | 探针卡基座、精密治具 | 无动态阻力,长期耐磨。 |
| 参数 | 能力 |
|---|---|
| 线性尺寸公差 | ±0.005mm |
| 位置度/同轴度 | ≤0.008mm |
| 表面粗糙度 | Ra ≤ 0.1μm(金属),Ra ≤ 0.4μm(陶瓷/石英) |
| 平面度/平行度 | ≤0.005mm/100mm |
| 微孔加工 | 最小孔径0.1mm,深径比可达20:1 |
逆向与优化能力
快速响应与交付
洁净包装与现场支持