半导体精密零部件

半导体精密零部件:从单晶硅到真空腔体,定义工艺设备的“骨架与血管”

聚焦刻蚀、薄膜沉积、光刻及量检测设备,我们提供符合SEMI标准的高洁净、耐腐蚀、超低释气核心部件加工服务。

设备原厂(OEM)及国产替代的一站式精密制造伙伴

其他信息

加工名称

CNC加工

加工材料

任何材质

加工尺寸

不限尺寸

加工精度

±0.005mm

产品描叙:

核心加工技术

超高真空与洁净控制

  • 配合Class 10级(部分环节千级)局部百级洁净装配环境,严格执行颗粒物及金属离子析出管控。
  • 核心部件表面粗糙度Ra ≤ 0.1μm,配合精密电解抛光/钝化处理,满足超高真空(UHV)10⁻⁹ Pa·m³/s 漏率要求,杜绝本底污染。

材料的精密成型

  • 难加工金属: 无磁不锈钢(316L/304L)、铝合金6061/7075、哈氏合金(Hastelloy C-22)、因瓦合金(低热膨胀)。
  • 精密陶瓷/石英: 氧化铝(Al₂O₃)、氮化铝(AlN)、高纯石英(熔融二氧化硅),加工后保持介电强度与热稳定性。
  • 工程塑料: PEEK、PTFE、Vespel、PCTFE、PFA,满足耐等离子体腐蚀及低释气要求。

复合工艺与质量追溯

  • 集成五轴CNC、精密磨削、EDM(电火花)、激光微加工及精密焊接(电子束/激光焊)。
  • 全流程SEMI标准管控:从晶棒/板材材质证明→加工过程SPC→最终清洗包装(双层真空袋+氮气保护),批号可逆查。

零部件加工能力

设备类型 典型零件 关键要求
刻蚀设备(Etch) 上/下电极板、气体分配板(GSP)、聚焦环 耐氟基/氯基等离子体腐蚀,精密微孔加工(孔径0.3mm)。
薄膜沉积(PVD/CVD) 腔体衬套、加热盘、遮护板(Shield)、靶材背板 高平面度(0.01mm/m),高温热循环下的尺寸稳定性。
光刻设备 晶圆载台(Chuck)、精密运动导轨 超高平面度(微米级),无磁/低热膨胀材料。
检测/分选设备 探针卡基座、精密治具 无动态阻力,长期耐磨。

加工精度

参数 能力
线性尺寸公差 ±0.005mm
位置度/同轴度 ≤0.008mm
表面粗糙度 Ra ≤ 0.1μm(金属),Ra ≤ 0.4μm(陶瓷/石英)
平面度/平行度 ≤0.005mm/100mm
微孔加工 最小孔径0.1mm,深径比可达20:1

为什么选择我们

逆向与优化能力

  • 拥有高精度三坐标(CMM)及蓝光扫描仪,可实现进口零件的精确测绘。
  • 在保持接口尺寸不变的前提下,优化螺纹参数、密封槽结构及材料牌号,提升部件在恶劣工艺腔室中的寿命。

快速响应与交付

  • 简单件48小时交付,复杂件5个工作日交付。
  • 支持一件起订:原型验证、小批量试产至大批量稳定供货(月产可达5000+件)。

洁净包装与现场支持

  • 包装前执行超声清洗+去离子水漂洗+无尘烘干的标准化流程。
  • 双层真空铝箔袋密封,附湿度指示卡及颗粒物检测报告,满足开箱即用要求。